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什么是光刻胶研发，急求答案，帮忙回答下
答精选答案
研究开发光刻胶系列产品就是光刻胶研发。
例如：南大光电“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。光刻胶是半导体芯片制造过程中的核心材料之一，经过紫外光、电子束等照射，光刻胶得到曝光，化学性质发生改变，经过显影液的洗涤，图案会留在衬底上。光刻胶分为KrF(248nm)、ArF(193nm)和EUV(13.5nm)几种，括号中的数值为曝光光源的波长。
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本文概览：研究开发光刻胶系列产品就是光刻胶研发。例如：南大光电“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。光刻胶是半导体芯片制造过程中的核心材料之一，经过紫外光、电子束等照射，光刻胶得到曝光，化学性质发生改变，经过显影液的洗涤，图案会留在衬底上。光刻胶分为KrF(248nm)、ArF(193nm)和EUV(13.5nm)几种，括号中的数值为曝光光源