光刻胶，也被称为光致抗蚀剂，是一种在特定光源（如紫外光、电子束、离子束、X射线等）的照射或辐射下，其溶解度会发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成，是一种对光敏感的混合液体。
在光刻工艺过程中，光刻胶用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶的品质直接决定集成电路的性能和良率，也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。
光刻胶可分为正性和负性两大类：
正性光刻胶：
在光照后，照亮的区域会溶解度降低，从而被保留下来，形成所需的图案。
负性光刻胶：
在光照后，未被照亮的区域会聚合交联形成固体，而照亮的区域则溶解度增加，从而被去除，同样形成所需的图案。
此外，光刻胶还可以按照其他标准进行分类，例如按其形成的图像类型、应用领域等。
光刻胶作为微电子制造中的核心材料，其技术门槛高，市场集中度高，是半导体产业链中不可或缺的一环。
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本文概览：光刻胶，也被称为光致抗蚀剂，是一种在特定光源（如紫外光、电子束、离子束、X射线等）的照射或辐射下，其溶解度会发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成，是一种对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，光刻胶用作抗