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低介电常数材料
SiLK的介电常数为2.6。 目前多孔SiLK的介电常数为2.2。 eywell推出的基于气凝胶的低介电常数材料。
正文
低介电常数材料或称low-K材料是当前半导体行业研究的热门话题。通过降低集成电路中使用的介电材料的介电常数，可以降低集成电路的漏电电流，降低导线之间的电容效应，降低集成电路发热等等。低介电常数材料的研究是同高分子材料密切相关的。传统半导体使用二氧化硅作为介电材料，氧化硅的介电常数约为4。真空的介电常数为1，干燥空气的介电常数接近于1
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本文概览：低介电常数材料SiLK的介电常数为2.6。 目前多孔SiLK的介电常数为2.2。 eywell推出的基于气凝胶的低介电常数材料。正文低介电常数材料或称low-K材料是当前半导体行业研究的热门话题。通过降低集成电路中使用的介电材料的介电常数，可以降低集成电路的漏电电流，降低导线之间的电容效应，降低集成电路发热等等。低介电常数材料的研究是同高分子材料密切相关的。传统半导体使用二氧化硅作为介电材料，氧化硅的介电常数约为4。真空的介电常数为1，干燥空气的介电常数接近于1