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光刻胶是什么提取的，在线求解答
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光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。
半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
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本文概览：光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。