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高端光刻胶是什么,有没有大神路过?求指点迷津!
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高端光刻胶是半导体光刻工艺的核心原材料,其产品水平直接影响芯片制造水平,按曝光波长由大到小可分为G线光刻胶(436nm)、I线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)。随着芯片集成度的提高,适用于8寸、12寸半导体硅片的配KrF、ArF是当下及未来短期内各光刻胶公司的重点发力市场。
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本文概览:高端光刻胶是半导体光刻工艺的核心原材料,其产品水平直接影响芯片制造水平,按曝光波长由大到小可分为G线光刻胶(436nm)、I线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)、EUV光刻胶(13.5nm)。随着芯片集成度的提高,适用于8寸、12寸半导体硅片的配KrF、ArF是当下及未来短期内各光刻胶公司的重点发力市场。