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就是负性光刻胶,受特定波长的光线照射后这种类型的光刻胶会变性硬化,显影时显影液会把其他未受光照的部分洗掉,从而把mask上的pattern投射到glass上 一般TFT上的电路 回路线 都是用正性光刻胶,CF板上的 BM,R、G、B 用的是负性光刻胶,当然不是绝对的,怎么用也要看PR的特性和功能能力,设备情况等等从而决定使用哪一种
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本文概览:就是负性光刻胶,受特定波长的光线照射后这种类型的光刻胶会变性硬化,显影时显影液会把其他未受光照的部分洗掉,从而把mask上的pattern投射到glass上 一般TFT上的电路 回路线 都是用正性光刻胶,CF板上的 BM,R、G、B 用的是负性光刻胶,当然不是绝对的,怎么用也要看PR的特性和功能能力,设备情况等等从而决定使用哪一种