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在PVD(Physical Vapor Deposition)和CVD(Chemical Vapor Deposition)设备工程师之间,要求的技术和知识可能会有所不同,但一般来说,CVD设备工程师的要求可能会更高。
CVD是一种通过化学反应在衬底表面沉积薄膜的过程,因此CVD设备工程师需要具备更深入的化学知识,了解反应机理和气相化学反应过程。他们需要熟悉不同气相反应物质的性质、反应条件和参数,以及如何选择适当的反应室和底板材料。另一方面,PVD是一种通过物理手段在衬底表面沉积薄膜的过程,例如物理蒸发、磁控溅射等。PVD设备工程师需要更多关注设备本身的工作原理和操作,以及真空系统的维护和调试。虽然他们也需要了解薄膜材料的性质和特点,但对化学知识的需求可能不如CVD设备工程师那么高。总的来说,CVD设备工程师可能需要更广泛的知识和技能,包括化学、物理以及工程方面的知识。而PVD设备工程师则更专注于设备本身的工作原理和操作。需要强调的是,这只是一般情况下的概括,具体要求可能会因为不同的工作环境和公司而有所不同。
答其他回答(1条)
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cvd工程师要求高!CVD方法几乎可以淀积集成电路工艺中所需要的各种薄膜,例如掺杂或不掺杂的SiO2、多晶硅、非晶硅、氮化硅、金属(钨、钼)等。
影响台阶覆盖性的关键在于气相沉积技术的“绕镀性”。
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本文概览:在PVD(Physical Vapor Deposition)和CVD(Chemical Vapor Deposition)设备工程师之间,要求的技术和知识可能会有所不同,但一般来说,CVD设备工程师的要求可能会更高。CVD是一种通过化学反应在衬底表面沉积薄膜的过程,因此CVD设备工程师需要具备更深入的化学知识,了解反应机理和气相化学反应过程。他们需要熟悉不同气相反应物质的性质、反应条件和参数,以及如何选择适当的反应室和底板材料。另一方面,PVD是一种通过物理手段在衬底表面沉积薄膜的过程,例如物理蒸发、磁