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2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。
在加工芯片的过程中,2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。
2nm光刻机的结构组成:
1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。
2、激光器:就是光源,光刻机核心设备之一。
3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。
4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。
5、光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。
6、遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。
7、能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。
8、掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。
9、掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。
10、物镜:物镜用来补偿光学误差,并将线路图等比例缩小。
11、硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。
12、内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。
答其他回答(2条)
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没有2nm光刻机这种机器。
所谓几nm指的是芯片的工艺制程,而不是光刻机。而且现在也没有2nm的芯片,目前芯片最小制程是4nm。就算有2nm,也是指用13.5nm极紫外光光源的euv光刻机,通过技术手段使芯片工艺制程达到2nm,而非是使用2nm光刻机。
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2NM光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。
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评论列表(4条)
我是公众科技网的签约作者“杨晓度”!
希望本篇文章《2nm光刻机是什么》能对你有所帮助!
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本文概览:2nm光刻机是芯片制造的核心设备之一。在加工芯片的过程中,2nm光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。2nm光刻机的结构组成:1、测量台、曝光台:是承载硅片的工作台。2、激光器:就是光源,光刻机核心设备之一。3、光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。4、能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。5、光束形状设置:设置光束为圆型