cdd传感器的原理和基本过程

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CCD的基本单元是MOS电容器,这种电容器能存贮电荷。以P型硅为例,在P型硅衬底上通过氧化在表面形成SiO2层,然后在SiO2 上淀积一层金属为栅极,P 型硅里的多数载流子是带正电荷的空穴,少数载流子是带负电荷的电子,当金属电极上施加正电压时,其电场能够透过SiO2绝缘层对这些载流子进行排斥或吸引。于是带正电的空穴被排斥到远离电极处,剩下不能移动的带负电的少数载流子在紧靠SiO2层形成负电荷层(耗尽层),这种现象便形成对电子而言的陷阱,电子一旦进入就不能复出,故又称为电子势阱。

当器件受到光照时(光可从各电极的缝隙间经过SiO2层射入,或经衬底的薄P型硅射入),光子的能量被半导体吸收,产生电子-空穴时,这时出现的电子被吸引存贮在势阱中,这些电子是可以传导的,光越强,势阱中收集的电子越多,光弱则反之,这样就把光的强弱变成电荷的数量,实现了光和电的转换,而势阱中收集的电子是被存贮状态即使停止光 137 照一定时间内也不会损失,这就实现了对光照的记忆。

总之,上述结构实质上是个微小的MOS 电容,用它构成象素,既可“感光”又可留下 “潜影”,感光作用是靠光强产生的电子积累电荷,潜影是各个象素留在各个电容里的电荷不等而形成的,若能设法把各个电容里的电荷依次传送到他处,再组成行和帧并经过“显影”就实现了图象的传递。

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  • 大书17
    大书17 2026年09月30日

    我是公众科技网的签约作者“大书17”!

  • 大书17
    大书17 2026年09月30日

    希望本篇文章《cdd传感器的原理和基本过程》能对你有所帮助!

  • 大书17
    大书17 2026年09月30日

    本站[公众科技网]内容主要涵盖:教育咨询,知识百科

  • 大书17
    大书17 2026年09月30日

    本文概览:CCD的基本单元是MOS电容器,这种电容器能存贮电荷。以P型硅为例,在P型硅衬底上通过氧化在表面形成SiO2层,然后在SiO2 上淀积一层金属为栅极,P 型硅里的多数载流子是带正电荷的空穴,少数载流子是带负电荷的电子,当金属电极上施加正电压时,其电场能够透过SiO2绝缘层对这些载流子进行排斥或吸引。于是带正电的空穴被排斥到远离电极处,剩下不能移动的带负电的少数载流子在紧靠SiO2层形成负电荷层(耗尽层),这种现象便形成对电子而言的陷阱,电子一旦进入就不能复出,故又称为电子势阱。当器件受到光照时(光可从各电

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