问问题描述
光刻机arf和euv有什么区别，有没有大佬在？求高手帮忙看看这个！
答精选答案
光刻机arf和euv的主要区别如下。
主要是是光刻机光源波长不同，arf指的是193纳米波长的深紫外光光源，而euv指的是13.5纳米波长的极紫外光光源。按光刻机划代来说arf属于第四代，制作芯片的制程是130-22纳米不等。euv属于第五代，制作芯片的制程为22-7纳米。
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本文概览：光刻机arf和euv的主要区别如下。主要是是光刻机光源波长不同，arf指的是193纳米波长的深紫外光光源，而euv指的是13.5纳米波长的极紫外光光源。按光刻机划代来说arf属于第四代，制作芯片的制程是130-22纳米不等。euv属于第五代，制作芯片的制程为22-7纳米。