问问题描述
刻蚀工艺流程，有没有大神路过？求指点迷津！
答精选答案
1.1开启等离子刻蚀机电源开关、冷却水开关，开氧气（02）和四氟化碳（CF4）
气瓶开关（两小格即可） 。
1.2打开射频电源预热 20 分钟。
1.3将扩散完、待加工的硅片整齐地叠在一起，在最上面、最下面的硅片上加同 规格的塑料薄片，用四氟片压好，盖上盖板，平衡拧紧螺丝， （控制好力度， 要压紧，但也不要太过用力，以免压碎硅片）放入离子刻蚀机反应室，对准 盖好上盖板。
1.4 打开机械泵，开主抽，开始抽真空，
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评论列表（4条）
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希望本篇文章《刻蚀工艺流程》能对你有所帮助！
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本文概览：1.1开启等离子刻蚀机电源开关、冷却水开关，开氧气（02）和四氟化碳（CF4）气瓶开关（两小格即可） 。1.2打开射频电源预热 20 分钟。1.3将扩散完、待加工的硅片整齐地叠在一起，在最上面、最下面的硅片上加同 规格的塑料薄片，用四氟片压好，盖上盖板，平衡拧紧螺丝， （控制好力度， 要压紧，但也不要太过用力，以免压碎硅片）放入离子刻蚀机反应室，对准 盖好上盖板。1.4 打开机械泵，开主抽，开始抽真空，